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정보제공 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr)
전자빔 증착전원 및 부대장치 제작
E-beam evaporation system power supply and source unit
| GBTP No. | - |
|---|---|
| NFEC등록번호 | NFEC-2014-11-193489 |
| I-tube등록번호 | - |
| 보유기관 | 한국원자력연구원 |
| 연락처 | 054-750-5308 |
| 대표번호 | - |
장비정보
| 모델명 | E-beam evaporation system | 제작사 | 대기하이텍 |
|---|---|---|---|
| 취득일자 | 2014-10-16 | 취득금액 | 81,510,000원 |
| 표준분류 | 기계가공/시험장비 > > | 활용용도 | 시험 |
| 장비위치 |
경상북도 경주시 건천읍 미래로 181 양성자가속기연구센터 빔이용연구동 F1층 B129
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| 장비설명 | 초고온가스로 공정 열 이용 고온기기 내 부식 표면처리용 전자빔 증착 시스템 중 전자빔 증착공정에 필요한 전원 및 부대장치에 관한것으로 전원이외에 ebeam source 및 고진공 gate valve를 포함하며 500x500 mm 이상의 면적에 균일한 전자빔 증착을 위한것이다 | ||
| 구성 및 기능 |
1.전자빔 source unit
1) 전원(power supply) -3ea -output voltage: 0~10kV -out current : 0~450mA -remote control 2.전자빔 source-3ea Single poket removable/interchangeable crucible w/o-ring seal water cooling sweep frequency 40~200HZ 3. High vacuum gate valve |
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| 사용/활용예 | |||
| 이용안내 | |||
| 유의사항 | |||
이용료안내
| 담당자에게 문의하시기 바랍니다. |
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