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정보제공 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr)

실험용 PVD 코팅장치

Lab. Scale PVD system

GBTP No. GBREMS-03-0336
NFEC등록번호 NFEC-2022-04-278587
I-tube등록번호 2204-C-0112
보유기관 경북테크노파크
연락처 054-634-6492
대표번호 053-819-7072

장비정보

모델명 모델명 없음 제작사 아이씨티
취득일자 2022-04-15 취득금액 251,900,000원
표준분류 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 전자빔증착기 활용용도 시험
장비위치
경상북도 영주시 풍기읍 동양대로 145 (재)경북테크노파크  경량소재융복합기술센터 F1층
장비설명 실험용 PVD 코팅 장치는 Sputter/Arc 이온플레이팅 공정을 융합하여 코팅 공정을 수행할 수 있는 장치로서 높은 이온화율과 이온들의 높은 kinetic에너지에 의해 많은 장점들을 가지고 있는 아크 이온 플레이팅 기술과 스퍼터링 기술을 동시에 구현하는 시스템임. 따라서 두 방법의 장단점을 서로 보완하여 줌으로서 내마모 내식 특성이 요구되는 자동차용 표면 코팅 부품 개발에 효과적으로 사용할 수 있음
구성 및 기능 진공 챔버
- 크기 : 1000mm(Ø)×1000mm(H)
- 최종 도달 진공도 : 1.0x10-6torr @ Room
temperature
- Chamber leak rate
· Rotation Part moving 시 : 5 x 10-9
mbar․ℓ/sec 이하
· Without Moving : 1 x 10-9 mbar․ℓ/sec
이하
- Heating 시스템 온도 편차
· Max. temperature : 400 ℃ ± 5 ℃
· Sensing point : 3 point

진공 펌핑 장치
- 고진공 펌프 : TMP(3000 l/sec. 이상)
- 저진공 펌프 : Booster 펌프 (600L이상) +
Dry Pump (2000 l/min 이상)
- Ultimate pressure : 1 x 10-6 torr 이하 (상온)
- Ultimate pressure : 5 x 10-6 torr 이하 (300℃)

코팅 Unit
- Arc 증착원
· 아크 타겟 크기 : 80mm(Ø) 기준
· 아크 발생 전원장치 (5kW 이상)
· 수량 : 3set
- Sputter 증착원
· 타겟 크기 : 800mm x 100mm 기준
· 전원장치 (10kW 이상, 가변 펄스)
· 수량 : 2set
- Coating Uniformity : 600 x 100mm Glass에서 아크 이온플레이팅과 스퍼터링 공정 모두 ±5%이하의 코팅 균일도를 나타내야 하며 균일도 측정은 Wafer의 상하좌우 중간 5Point를 측정함
사용/활용예 -
이용안내 -
유의사항 -

이용료안내

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