정보제공 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr)
Lab. Scale PVD system
GBTP No. | GBREMS-03-0336 |
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NFEC등록번호 | NFEC-2022-04-278587 |
I-tube등록번호 | 2204-C-0112 |
보유기관 | 경북테크노파크 |
연락처 | 054-634-6492 |
대표번호 | 053-819-7072 |
모델명 | 모델명 없음 | 제작사 | 아이씨티 |
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취득일자 | 2022-04-15 | 취득금액 | 251,900,000원 |
표준분류 | 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 전자빔증착기 | 활용용도 | 시험 |
장비위치 | |||
장비설명 | 실험용 PVD 코팅 장치는 Sputter/Arc 이온플레이팅 공정을 융합하여 코팅 공정을 수행할 수 있는 장치로서 높은 이온화율과 이온들의 높은 kinetic에너지에 의해 많은 장점들을 가지고 있는 아크 이온 플레이팅 기술과 스퍼터링 기술을 동시에 구현하는 시스템임. 따라서 두 방법의 장단점을 서로 보완하여 줌으로서 내마모 내식 특성이 요구되는 자동차용 표면 코팅 부품 개발에 효과적으로 사용할 수 있음 | ||
구성 및 기능 |
진공 챔버
- 크기 : 1000mm(Ø)×1000mm(H) - 최종 도달 진공도 : 1.0x10-6torr @ Room temperature - Chamber leak rate · Rotation Part moving 시 : 5 x 10-9 mbar․ℓ/sec 이하 · Without Moving : 1 x 10-9 mbar․ℓ/sec 이하 - Heating 시스템 온도 편차 · Max. temperature : 400 ℃ ± 5 ℃ · Sensing point : 3 point 진공 펌핑 장치 - 고진공 펌프 : TMP(3000 l/sec. 이상) - 저진공 펌프 : Booster 펌프 (600L이상) + Dry Pump (2000 l/min 이상) - Ultimate pressure : 1 x 10-6 torr 이하 (상온) - Ultimate pressure : 5 x 10-6 torr 이하 (300℃) 코팅 Unit - Arc 증착원 · 아크 타겟 크기 : 80mm(Ø) 기준 · 아크 발생 전원장치 (5kW 이상) · 수량 : 3set - Sputter 증착원 · 타겟 크기 : 800mm x 100mm 기준 · 전원장치 (10kW 이상, 가변 펄스) · 수량 : 2set - Coating Uniformity : 600 x 100mm Glass에서 아크 이온플레이팅과 스퍼터링 공정 모두 ±5%이하의 코팅 균일도를 나타내야 하며 균일도 측정은 Wafer의 상하좌우 중간 5Point를 측정함 |
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사용/활용예 | - | ||
이용안내 | - | ||
유의사항 | - |
담당자에게 문의하시기 바랍니다. |
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