장비검색/예약
- 홈
- 장비활용
- 장비검색/예약
정보제공 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr)
저압화학기상증착기
LP-CVD System
| GBTP No. | - |
|---|---|
| NFEC등록번호 | NFEC-2008-06-056047 |
| I-tube등록번호 | 0610-C-0115 |
| 보유기관 | 포항공과대학교 |
| 연락처 | 054-279-0228 |
| 대표번호 | - |
장비정보
| 모델명 | BJM100 | 제작사 | 유진테크 |
|---|---|---|---|
| 취득일자 | 2006-10-24 | 취득금액 | 694,688,000원 |
| 표준분류 | 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 플라즈마기상화학증착장비 | 활용용도 | 시험 |
| 장비위치 |
경상북도 포항시 남구 청암로 77 (지곡동) 산27 포항공과대학교 나노기술집적센터 F2 박막룸
 |
||
| 장비설명 |
특징
온도 약 700도 저압분위기에서 반응 Gas는 기판 위에서 화학반응을 하여 고품질의 박막이 성장 Bluejay M100 single Nitride 시스템은 고온을 이용한다. CVD와 유사하게 화학 반응은 웨이퍼 위에 질화막을 증착 시킨다. 이 공정은 고온(650 ~ 750℃) 과 저압(250 ~ 350 Torr)에서 수행된다.. 이 PM(process module) #1 #2는 TM(transport chamber)의 스테이션 #1 #2와 웨이퍼 센서가장착된 slot valve로 결합된다. PM platform clean front frame main system control rack 은 clean 및 service area에 위치한다. main power box heat exchanger 와 dry pump unit은 plenum area에 위치한다 |
||
| 구성 및 기능 |
구성및성능
구성: Platform PM Main Control Rack PM Control Rack Clean Front Frame Monitor Rack Dry Pump Main Power Box Gas Scrubber etc. 성능: 박막의 두께 균일도 ±3%(1sigma) 이하 |
||
| 사용/활용예 |
저압화학기상증착기(LP-CVD System)의 활용분야는 다음과 같습니다.
SiO2 Si3N4 Undoped Poly-Si Doped Poly-Si 박막 증착 PM platform clean front frame main system control rack |
||
| 이용안내 | |||
| 유의사항 | |||
이용료안내
| 담당자에게 문의하시기 바랍니다. |
|---|