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정보제공 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr)
감광제 제거장치
PR Descum
| GBTP No. | - |
|---|---|
| NFEC등록번호 | NFEC-2009-02-071154 |
| I-tube등록번호 | 0901-C-0113 |
| 보유기관 | 포항공과대학교 |
| 연락처 | 054-279-0227 |
| 대표번호 | - |
장비정보
| 모델명 | DAS2000 | 제작사 | 피에스케이(PSK) |
|---|---|---|---|
| 취득일자 | 2009-01-20 | 취득금액 | 99,000,000원 |
| 표준분류 | 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 식각장비 | 활용용도 | 시험 |
| 장비위치 |
경상북도 포항시 남구 청암로 77 (지곡동) 산27 포항공과대학교 나노기술집적센터 F2 maple
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| 장비설명 |
위의 감광제 제거장치(PR Descum)의 특징은 다음과 같습니다.
반도체의 패턴(pattern)을 형성한 후 잔류 및 기본적인 감광제를 제거하는 역할을 합니다. 그 외 Microwave Plasma 방식의 wafer damage 최소화 역할 |
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| 구성 및 기능 |
위의 감광제 제거장치(PR Descum)의 구성 및 성능은 다음과 같습니다.
Microwave Plasma 방식의 wafer damage 최소화 200mm Ashing System |
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| 사용/활용예 |
위의 감광제 제거장치(PR Descum)의 활용분야는 다음과 같습니다.
▶Pattern Develop 후 잔류 Resist 제거 ▶Etching 공정 후 Masking Layer PR 제거 |
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| 이용안내 | |||
| 유의사항 | |||
이용료안내
| 담당자에게 문의하시기 바랍니다. |
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