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정보제공 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr)
실리사이드용 급속열처리 장치
RTP for Silicide
| GBTP No. | - |
|---|---|
| NFEC등록번호 | NFEC-2009-02-071227 |
| I-tube등록번호 | 0901-C-0120 |
| 보유기관 | 포항공과대학교 |
| 연락처 | 054-279-0226 |
| 대표번호 | - |
장비정보
| 모델명 | AST 2800 | 제작사 | Mattson |
|---|---|---|---|
| 취득일자 | 2009-01-19 | 취득금액 | 99,000,000원 |
| 표준분류 | 기계가공/시험장비 > 열유체장비 > 전기/소결로 | 활용용도 | 시험 |
| 장비위치 |
경상북도 포항시 남구 청암로 77 (지곡동) 산27 포항공과대학교 나노기술집적센터 F2 박막룸
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| 장비설명 |
실리사이드용 급속열처리 장치의 특징
고에너지의 광원을 Wafer에 복사함으로서 Wafer를 열처리함. Wafer의 온도를 급속하게 증가시키고 강하시켜 Thermal Budget을 최소화 할 수 있음. |
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| 구성 및 기능 |
구성및성능
A. 장비성능 1) Wafer Size : 8 inch wafer 2) Temp. Range : 450 ~ 1300℃ 3) Temp. Uniformity and Repeatability : ＜ ± 3℃ 4) Ramp Up/down Rate : 150 / -100 ℃/sec 5) Particle : ＜10ea＞＠ 0.2um 3mm edge exclusion 6) Gas Circuit: 6-channel Process Gas(N2 O2 NH3 Ar…) B. 공정성능 1) Rs Uniformity(1sigma) ＜5% |
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| 사용/활용예 |
위의 장비 (실리사이드용 급속열처리 장치)의 활용분야는 다음과 같습니다.
Ni Co Ti Sicidation Adhesion Metal Thin Film Thermal Anneal |
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| 이용안내 | |||
| 유의사항 | |||
이용료안내
| 담당자에게 문의하시기 바랍니다. |
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