장비검색/예약
- 홈
- 장비활용
- 장비검색/예약
정보제공 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr)
금속박막 건식 식각장치
Metal Dry Etcher
| GBTP No. | - |
|---|---|
| NFEC등록번호 | NFEC-2009-08-072319 |
| I-tube등록번호 | 0907-C-0071 |
| 보유기관 | 포항공과대학교 |
| 연락처 | 054-279-0227 |
장비정보
| 모델명 | TCP 9608 | 제작사 | Lam Research |
|---|---|---|---|
| 취득일자 | 2009-07-03 | 취득금액 | 99,000,000원 |
| 표준분류 | 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 식각장비 | 활용용도 | 시험 |
| 장비위치 |
경상북도 포항시 남구 청암로 77 (지곡동) 산27 포항공과대학교 나노기술집적센터 F2 maple
 |
||
| 장비설명 | 위 장비의 특징은 플라즈마가 형성된 진공 Chamber 내에 반응기체(Cl2)를 인가하면 가속된 Ar이온과 Cl2 가스가 금속박막의 표면 원자와 반응하여 금속박막을 식각하는 것입니다. | ||
| 구성 및 기능 |
구성및성능
Aluminum Etch Rate ＞ 6000Å/min Etch Rate Uniformity(1sigma) ＜ 3% Al to PR Selectivity ＞ 2.5 Al to Oxide Selectivity ＞ 10 Etch Profile ＞ 87degree＞＜ |
||
| 사용/활용예 |
위 장비(Dry Etcher Metal)의 활용분야는 반도체 제조공정 중 배선용 Metal 박막을 건식식각공정에 사용합니다.
위 장비(Dry Etcher Metal)의 활용분야는 반도체 제조공정 중 배선용 Metal 박막을 건식식각공정에 사용합니다. |
||
| 이용안내 | |||
| 유의사항 | |||
이용료안내
| 담당자에게 문의하시기 바랍니다. |
|---|