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정보제공 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr)
원자층증착장치
(Atomic Layer Deposition(ALD))
| GBTP No. | GBREMS-20-0076 |
|---|---|
| NFEC등록번호 | NFEC-2019-01-253399 |
| I-tube등록번호 | - |
| 보유기관 | 포항공과대학교 산학협력단 |
| 연락처 | 054-279-0232 |
| 대표번호 | - |
장비정보
| 모델명 | Plus 200 | 제작사 | 큐로스(Quros) |
|---|---|---|---|
| 취득일자 | 2006-12-29 | 취득금액 | 274,450,000원 |
| 표준분류 | 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 원자층증착장비 | 활용용도 | 시험 |
| 장비위치 |
경상북도 포항시 남구 청암로 77 포항공과대학교 산학협력단 포항공과대학교 산학협력단 클린룸
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| 장비설명 |
·8 inch ~ 조각 웨이퍼 진행 · 두께 Uniformity : 8 inch 웨이퍼 기준 1% 이내 · 기판온도 700도까지 가능 · Al2O3, HfO2 진행 |
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| 구성 및 기능 | 박막 증착 시 전구체 기체, 퍼지 기체, 반응 기체를 순차적으로 인가하여 단일 원자층 단위 반응하여 증착됨. Wafer내의 Uniformity와 Step Coverage 특성이 일반 박막증착 방법에 비해 월등이 좋음. | ||
| 사용/활용예 | 실리콘 기판 위에 하프늄산화막 증착 | ||
| 이용안내 | |||
| 유의사항 | |||
이용료안내
| 담당자에게 문의하시기 바랍니다. |
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