정보제공 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr)
UHV-CVD
GBTP No. | GBREMS-20-0071 |
---|---|
NFEC등록번호 | NFEC-2019-01-253406 |
I-tube등록번호 | - |
보유기관 | 포항공과대학교 산학협력단 |
연락처 | 054-279-0226 |
모델명 | Eureka 2000 | 제작사 | 주성엔지니어링 |
---|---|---|---|
취득일자 | 2008-02-29 | 취득금액 | 387,000,000원 |
표준분류 | 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 플라즈마기상화학증착장비 | 활용용도 | 시험 |
장비위치 | |||
장비설명 |
·8 inch wafer · 에피 성장 (SEG, SiGe, Ge, SiC) · 기판온도 750℃까지 진행 · Uniformity 1% 이하 |
||
구성 및 기능 | Wafer를 가열하여 반응 가스를 일정 압력으로 유지하여 Wafer 위에 원하는 박막을 기판의 결정방향과 동일한 에피층을 증착 | ||
사용/활용예 | Si, SiGe, Ge의 Epi 성장 B, As 등 in-situ doping | ||
이용안내 | |||
유의사항 |
담당자에게 문의하시기 바랍니다. |
---|
잠시만 기다려 주세요.