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정보제공 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr)
마스크 얼라이너 및 노광 장비
Mask Aligner & Exposure system
| GBTP No. | - |
|---|---|
| NFEC등록번호 | NFEC-2021-08-272059 |
| I-tube등록번호 | - |
| 보유기관 | 포항공과대학교 |
| 연락처 | 054-279-5430 |
장비정보
| 모델명 | M150P | 제작사 | 프로윈 |
|---|---|---|---|
| 취득일자 | 2021-07-08 | 취득금액 | 39,270,000원 |
| 표준분류 | 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 리소그래픽장비 | 활용용도 | 시험 |
| 장비위치 |
경상북도 포항시 남구 청암로 77 (지곡동) 산27 포항공과대학교 제3공학관 F1층 3116호
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| 장비설명 | 반도체 공정 중 광학 리소그라피 공정을 수행하기 위해 필수적인 장비이다. 광학 리소그라피 공정은 반도체 에피텍셜 성장 기판 가공과 식각을 위한 마스크 제작, 테라헤르츠 메타물질 등의 광전자소자와 RF 소자의 전극 형성을 위한 lift-off 공정에서 필수적으로 수행된다. 또한, 정밀한 다층 구조의 소자 제작을 위해 고성능의 마이크로미터급 정렬이 가능한 시스템이 필요하다. 해당 장비는 최대 <±0.5 ㎛ 의 정렬 정확도를 갖고 있으며, 이는 연구목적으로 사용하기 적합한 수준의 고성능 장비이다. 우리 실험실에서 인공지능 관련 연산을 할 수 있는 반도체 소자를 제작하기 위하여 리소그라피 과정에 사용할 예정이다. | ||
| 구성 및 기능 |
마스크 크기/마스크 홀더 6"X6"가 열린 7"x7" 마스크 플레이트용 마스크 홀더,
[상단 측면 정렬 현미경] [1] 이중 마이크로 스코프(Moritex). 목표 간격 ~ 150mm [2] CCD 카메라를 사용하여 이미지를 화면에 실시간으로 표시할 수 있어야 한다. 10배 [3] 확대 : ~ 1000배(모니터배율) [4] 수동; X: ± 80 mm, Y: ± 20 mm, [UV 노출 시스템] [1] 최대 350W 범용 램프 하우징 [2] Hg >350W 램프 [3] 350W 램프에 필요한 모든 적절한 소켓 케이블 연결 [4] 350nm 및 450nm 파장에 적합한 광학. [5] 350nm 및 450nm 자외선 센서[6] 최대 150mm dia의 웨이퍼에서 ±3%의 균일성을 갖는 병렬 조명. [7] +/-3% 이상의 균일성을 달성하기 위해 다양한 조명 개구부를 가진 Micro Optics로 업그레이드 [UV 램프 전원 공급 장치] [1] 200W ~ 350W 이상의 다양한 전력을 위한 단일 솔리드 스테이트 전원 공급 장치. [2] 선택 가능한 상수 강도 또는 전원 모드. [3] 램프의 다양한 파워를 선택할 수 있는 램프의 실제 강도와 동력의 동시 표시 [자외선 강도 측정기] [1] 웨이퍼의 실시간 강도 측정에 사용됩니다. [2] 350nm 및 455nm 파장에 적합한 강도 프로브. [진공 펌프 튜브와 연결부가 있는 적합한 이중 막 오일 자유 진공 펌프] [진동 없는 테이블 적절한 진동 절연 테이블](세부 석판 인쇄에 필요) |
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| 사용/활용예 | |||
| 이용안내 | |||
| 유의사항 | |||
이용료안내
| 담당자에게 문의하시기 바랍니다. |
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