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정보제공 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr)
ALD 증착 장비
Atomic Layer Deposition Tool
| GBTP No. | - |
|---|---|
| NFEC등록번호 | NFEC-2021-09-273132 |
| I-tube등록번호 | - |
| 보유기관 | 포항공과대학교 |
| 연락처 | 010-8715-0205 |
| 대표번호 | - |
장비정보
| 모델명 | Automic Classic | 제작사 | (주)씨엔원 |
|---|---|---|---|
| 취득일자 | 2021-08-26 | 취득금액 | 81,400,000원 |
| 표준분류 | 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 원자층증착장비 | 활용용도 | 시험 |
| 장비위치 |
경상북도 포항시 남구 청암로 67 포항산업과학연구원 연구3동 F1층 3116호
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| 장비설명 | ALD는 박막의 원료가 되는 전구체(precursor)와 반응물을 진공상태의 기판 표면에 번갈아 가며 노출시키면서 매 사이클마다 원자층 두께 수준의 극초박막을 쌓아 올릴 수 있는 기술로, 자기제한적(self-limiting) 표면화학 반응에 의하여 일어남에 따라 증착되는 물질의 두께를 미세하게 조절 가능할 뿐 아니라 고품질의 박막을 균일하게 도포할 수 있는 등의 장점을 가지고 있다 | ||
| 구성 및 기능 |
1. Process Module
- 6" Traveling Wave Type Thermal ALD Chamber - Chamber Material : SUS304 - Max Process Temperature : 450℃ - Chamber Wall Temperature : 150℃ - Source Delivery : 4 Sets(3 Sets 150℃ Canister with Carrier Gas + 1 Set Room Temperature Canister) - Reactant : H20 Canister - Purge and Carrier Gas : N2 - Hot Trap 2. Process Pump - Dry Pump : 2,000 L/min |
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| 사용/활용예 | |||
| 이용안내 | |||
| 유의사항 | |||
이용료안내
| 담당자에게 문의하시기 바랍니다. |
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