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정보제공 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr)
반응성 이온 식각장치
REACTIVE ION ETCHER(RIE System)
| GBTP No. | GBREMS-02-0078 |
|---|---|
| NFEC등록번호 | NFEC-2007-10-004320 |
| I-tube등록번호 | 0602-Z-0123 |
| 보유기관 | 포항테크노파크 |
| 연락처 | 054-223-2114 |
장비정보
| 모델명 | PLASMALAB 80 PLUS. | 제작사 | Oxford Instruments |
|---|---|---|---|
| 취득일자 | 2006-02-28 | 취득금액 | 173,103,848원 |
| 표준분류 | 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 식각장비 | 활용용도 | 시험 |
| 장비위치 |
경상북도 포항시 남구 지곡로 394 (지곡동, 포항테크노파크) 포항테크노파크 포항테크노파크 제2벤처동
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| 장비설명 |
비명 : 질화 산화실리콘 전식식각장비(반응성 이온 식각장비)
델명 : PLASMALAB 80 PLUS 특징 : SiNx etch rate: > 50nm/min SiOx etch rate: > 35nm/min -Laser End-point Detection -Process Gas: CHF3 SF6 |
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| 구성 및 기능 | |||
| 사용/활용예 | 활용분야 : 질화실리콘(SiNx) 및 산화실리콘(SiOx) 박막건식식각 및 플라즈마 표면처리 | ||
| 이용안내 | |||
| 유의사항 | |||
이용료안내
| 담당자에게 문의하시기 바랍니다. |
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