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정보제공 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr)

이온밀러

Ion milling System

GBTP No. GBREMS-17-0017
NFEC등록번호 NFEC-2020-01-259973
I-tube등록번호 1911-C-0448
보유기관 한국생산기술연구원
연락처 054-630-0807

장비정보

모델명 IM4000PLUS Series 제작사 Hitachi
취득일자 2019-12-23 취득금액 123,328,770원
표준분류 기계가공/시험장비 > 절삭장비 > 밀링장비 활용용도 시험
장비위치
경상북도 영주시 장수면 용주로 88-42 용주로 88-42 High-Tech베어링시험센터 B층
장비설명 1. 원리
- Ion beam은 Anode 와 Cathode 사이에 전압이 인가되고 argon gas 가 주입 되면 Anode 와 Cathode 사이에서 플라즈마
가 발생.
- 발생한 Ion beam은 Cathode 와 Electrode 사이에 전압이 인가되어 가속되고 Ion beam이 샘플에 도달하여 Milling 됨.
- 이온 Gun에는 집속장치가 없어서 Gas 유량을 조 절하여 전류를 발생시켜 Sample을 Milling 함.

2. 특징
- Ar Gas Ion Beam을 이용하여 milling 하는 장비로써 물리적 절삭장비를 이용하여 단면가공을 할 때 발생하는 일그러짐 이
나 절삭공구와 접촉시 발생할 수 있는 시료오염 등을 방지하고 깨끗한 단면을 얻기 위해 사용되는 장비.
구성 및 기능 1. Ion gun
1) Type : Penning type or Two TrueFocus type Ar gun
2) Accelerating voltage : 100v to 6kV or wider
3) Milling rate : Cross-section 500㎛/hr(Sample Si) or better
4) Ar gas flow control : High accuracy Mass flow control
2. Cross Section Stage
1) X movement : 0 to +7㎜ or wider
2) Y movement : 0 to +3㎜ or wider
3) Swing milling angle : 0˚ to 10˚ or wider
4) Sample swing speed : OFF + 1 speed or more
5) Max. sample size : 10㎜W x 10㎜D x 4㎜H or larger
3. Flat Milling Stage
1) X movement : 0 to 5㎜ or wider
2) Rotation Speed : 1 to 25 r/m or wider
3) Tilt angle : 0˚ to 90˚ or wider
4) Max. sample size : 32mm dia. x 25mm(H) or larger
4. Vacuum system
1) Main pump : TMP - 26L/sec x 1 or better
2) Oil rotary pump or Diaphragm Pump
3) Ar gas flow control type : Mass flow controller
5. Safety device
- In case of power failure or accident, the protective circuit should be actuated and protects
the unit from trouble.
사용/활용예
이용안내
유의사항

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