정보제공 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr)
Ion milling System
GBTP No. | GBREMS-17-0017 |
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NFEC등록번호 | NFEC-2020-01-259973 |
I-tube등록번호 | 1911-C-0448 |
보유기관 | 한국생산기술연구원 |
연락처 | 054-630-0807 |
모델명 | IM4000PLUS Series | 제작사 | Hitachi |
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취득일자 | 2019-12-23 | 취득금액 | 123,328,770원 |
표준분류 | 기계가공/시험장비 > 절삭장비 > 밀링장비 | 활용용도 | 시험 |
장비위치 | |||
장비설명 |
1. 원리
- Ion beam은 Anode 와 Cathode 사이에 전압이 인가되고 argon gas 가 주입 되면 Anode 와 Cathode 사이에서 플라즈마 가 발생. - 발생한 Ion beam은 Cathode 와 Electrode 사이에 전압이 인가되어 가속되고 Ion beam이 샘플에 도달하여 Milling 됨. - 이온 Gun에는 집속장치가 없어서 Gas 유량을 조 절하여 전류를 발생시켜 Sample을 Milling 함. 2. 특징 - Ar Gas Ion Beam을 이용하여 milling 하는 장비로써 물리적 절삭장비를 이용하여 단면가공을 할 때 발생하는 일그러짐 이 나 절삭공구와 접촉시 발생할 수 있는 시료오염 등을 방지하고 깨끗한 단면을 얻기 위해 사용되는 장비. |
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구성 및 기능 |
1. Ion gun
1) Type : Penning type or Two TrueFocus type Ar gun 2) Accelerating voltage : 100v to 6kV or wider 3) Milling rate : Cross-section 500㎛/hr(Sample Si) or better 4) Ar gas flow control : High accuracy Mass flow control 2. Cross Section Stage 1) X movement : 0 to +7㎜ or wider 2) Y movement : 0 to +3㎜ or wider 3) Swing milling angle : 0˚ to 10˚ or wider 4) Sample swing speed : OFF + 1 speed or more 5) Max. sample size : 10㎜W x 10㎜D x 4㎜H or larger 3. Flat Milling Stage 1) X movement : 0 to 5㎜ or wider 2) Rotation Speed : 1 to 25 r/m or wider 3) Tilt angle : 0˚ to 90˚ or wider 4) Max. sample size : 32mm dia. x 25mm(H) or larger 4. Vacuum system 1) Main pump : TMP - 26L/sec x 1 or better 2) Oil rotary pump or Diaphragm Pump 3) Ar gas flow control type : Mass flow controller 5. Safety device - In case of power failure or accident, the protective circuit should be actuated and protects the unit from trouble. |
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사용/활용예 | |||
이용안내 | |||
유의사항 |
담당자에게 문의하시기 바랍니다. |
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