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정보제공 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr)
유도결합 플라즈마 식각장비
ICP etching system
| GBTP No. | GBREMS-12-0260 |
|---|---|
| NFEC등록번호 | NFEC-2008-09-067511 |
| I-tube등록번호 | 0803-C-0028 |
| 보유기관 | 구미전자정보기술원 |
| 연락처 | 053-589-0726 |
장비정보
| 모델명 | REDOX- 200 | 제작사 | 포올(Forall) |
|---|---|---|---|
| 취득일자 | 2008-03-05 | 취득금액 | 276,367,400원 |
| 표준분류 | 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 식각장비 | 활용용도 | 시험 |
| 장비위치 |
경상북도 구미시 산동면 첨단기업1로 17 첨단기업1로17 구미전자정보기술원 진흥관 F6 612
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| 장비설명 |
* 상세설명
‘inductively coupled plasma(고주파 유도 결합 플라스마)’의 약어 고주파 코일의 축을 따라 아르곤 등의 불활성 기체와 분무 시료의 혼합물을 흘림으로써 전자적(電磁的)으로 플라스마 상태를 생성시켜 이에 의한 발광을 광원으로 사용하는 것. |
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| 구성 및 기능 |
* 장비 성능
1. Substrate : 8inch 2. Etch rate : 1000A/min 3. Vacuum : 10E-6 4. Metal & Si etching |
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| 사용/활용예 |
* 용도
- 소자공정중 패턴된 영역의 식각공정 수행 - 반도체 소자 태양전지 트랜지스터 소자의 식각 - 패턴 후 제거공정 수행 |
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| 이용안내 | |||
| 유의사항 | |||
이용료안내
| 담당자에게 문의하시기 바랍니다. |
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