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정보제공 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr)
DC/RF 박막 증착장비
DC/RF sputtering system
| GBTP No. | GBREMS-12-0259 |
|---|---|
| NFEC등록번호 | NFEC-2008-09-067517 |
| I-tube등록번호 | 0803-C-0026 |
| 보유기관 | 구미전자정보기술원 |
| 연락처 | 053-589-0726 |
| 대표번호 | 054-479-2002 |
장비정보
| 모델명 | TGS-2000 | 제작사 | 에피코스 |
|---|---|---|---|
| 취득일자 | 2008-03-01 | 취득금액 | 247,147,000원 |
| 표준분류 | 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 스퍼터 | 활용용도 | 시험 |
| 장비위치 |
경상북도 구미시 산동면 첨단기업1로 17 첨단기업1로17 구미전자정보기술원 진흥관 F6 612
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| 장비설명 |
*특징
스퍼터(Sputter)는 스퍼터링 방식으로 박막을 제조하는 장치로 진공 상태에서 아르곤 가스를 소량 주입하고 한편에는 재료 물질인 원반형 타겟을 두고 반대 쪽에는 기판을 두고 둘 사이에 전압을 인가하되 직류(DC)와 라디오 주파수(rf) 중간주파수(mf)의 방식으로 한다. 전압이 인가되면 아르곤이 이온화되고 전압에 의해 가속되며 타겟에 부딪히게 된다. 이때 타겟의 재료가 튀어나와서 반대쪽에 있는 기판에 붙어서 성장하게 되어 만들어진 것을 박막이라한다. 타겟의 이면에 특수한 자석을 붙여서 효율을 향상시킨다. 불활성 기체로 아르곤 이외에 크세논이 사용되기도 한다. 산소 질소등의 반응성 기체를 첨가하여 반응성 스퍼터링을 하여 산화물과 질화물 박막을 제조한다. |
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| 구성 및 기능 |
* 장비 성능
1. Guns : 4inch 1ea 6inch 2ea 2. RF & DC compatible 3. Vaccum : ~ 10E-7 4. Substrate : 8inch |
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| 사용/활용예 |
* 용도
- 박막증착 및 건식 코팅공정 - 금속 및 세라믹 재료 코팅 및 증착 |
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| 이용안내 | |||
| 유의사항 | |||
이용료안내
| 담당자에게 문의하시기 바랍니다. |
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