장비검색/예약
- 홈
- 장비활용
- 장비검색/예약
정보제공 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr)
마스크 얼라이너
Mask Aligner
| GBTP No. | GBREMS-18-0162 |
|---|---|
| NFEC등록번호 | NFEC-2011-10-149957 |
| I-tube등록번호 | - |
| 보유기관 | 영남대학교 산학협력단 |
| 연락처 | 053-810-2344 |
장비정보
| 모델명 | MA6 | 제작사 | Suss Microtec |
|---|---|---|---|
| 취득일자 | 2011-09-08 | 취득금액 | 296,656,794원 |
| 표준분류 | 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 리소그래픽장비 | 활용용도 | 시험 |
| 장비위치 |
경상북도 경산시 대학로 280 (대동) 214-1번지 영남대학교 CRC F1층 102호
 |
||
| 장비설명 |
광원 현미경 X-Y-Z 제어 각도제어 장치가 종합적으로 구성되어 있는 정렬 및 노광 장비로 광 소자 제작에서 미세 선폭 패터닝에 사용되는 범용장비임. 2" 4" and 6" wafer available
Wafer and Mask Available Wafer chuck for 조각시편 2“4”6” wafer Mask Holder for 2”4”6” wafer Exposure Spec. Exposure Optics : Hg-Lamp 350W UV400 : 350～450 ㎚ (I- H- G-line) Exposure uniformity : ±2% uniformity for 100mm wafer and ±4% for 150mm wafer |
||
| 구성 및 기능 |
Exposure system
1) Mode : Proximity Soft- Hard- Soft Vacuum- Vacuum contact 2) Exposure gap : 1～100 ㎛ 3) Gap adjustment resolution < 1 ㎛ 4) Contact pressure adjustable : 0.02～40 N/cm2 5) Vacuum contact adjustable : ～200 mbar abs Resolution 1) Proximity in 20 ㎛ gap : 1.0~3.0 ㎛ 2) Soft/Hard Contact :0.8~ 2 ㎛ 3) Vacuum Contact : 0.5～0.8 ㎛ Alignment 1) Alignment range in X < ±10 ㎜ 2) Alignment range in Y <±5 ㎜ 3) Alignment range in θ < ±5° 4) Mechanical resolution in XYθ < 0.1 ㎛ |
||
| 사용/활용예 | |||
| 이용안내 | |||
| 유의사항 | |||
이용료안내
| 담당자에게 문의하시기 바랍니다. |
|---|