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정보제공 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr)
이빔시스템
Electron beam evaporator
| GBTP No. | GBREMS-18-0092 |
|---|---|
| NFEC등록번호 | NFEC-2013-04-178416 |
| I-tube등록번호 | 1301-C-0012 |
| 보유기관 | 영남대학교 산학협력단 |
| 연락처 | 053-810-4455 |
| 대표번호 | - |
장비정보
| 모델명 | REP5004 | 제작사 | 에스엔텍 |
|---|---|---|---|
| 취득일자 | 2013-02-22 | 취득금액 | 117,700,000원 |
| 표준분류 | 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 전자빔증착기 | 활용용도 | 시험 |
| 장비위치 |
경상북도 경산시 대학로 280 (대동) 214-1번지 영남대학교 CRC F4 대경태양전지지역혁신센터 장비실 (401)
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| 장비설명 |
장비명 : E-beam system
용도 : 전자빔을 이용하여 고융점 금속을 증발시켜 태양전지용 금속전극을 형성시키는 장비 여러 금속 물질을 E-Beam source와 Thermal source를 이용하여 선택적 사용이 용이 |
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| 구성 및 기능 |
System 구성 : Process Chamber
E-Beam Gun & Power Supply : 15cc, 4pocket, 6kW, source 270 Deflection Thermal Source & Power Supply : 3kW(10V, 300A,1set), Thermal W boat Substrate 사이즈 : 100mm 100mm System Contol : PLC Based Touch Panel Control l(Manual Type Control) Vacuum Unit : Rotalry Pump, Turbo Molecular Pump Rotation Unit : AC Motor Thickness Monitor : Inficon, SQM 160 Thickness Uniformity : ≤±5%@ 3,000Å |
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| 사용/활용예 |
태양전지의 전극을 형성하는 장비로 사용됨
4 porket을 이용하여 여러 물질의 전극을 증착 시키는데 용이함 전극의 두께 컨트롤이 다른 장비에 비해 우수하며 막 질이 우수함 태양전지 뿐 아니라 여러 반도체 소자의 전극형성에도 이용됨 |
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| 이용안내 | |||
| 유의사항 | |||
이용료안내
| 담당자에게 문의하시기 바랍니다. |
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