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정보제공 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr)
열산화반응챔버
HORIZONTAL DRY & WET OXIDATION FURNACE SYSTEM(PYRO-H)
| GBTP No. | - |
|---|---|
| NFEC등록번호 | NFEC-2025-01-302984 |
| I-tube등록번호 | - |
| 보유기관 | 구미대학교 산학협력단 |
| 연락처 | 054-440-1447 |
장비정보
| 모델명 | HORIZONTAL FURNACE | 제작사 | (주)울텍 |
|---|---|---|---|
| 취득일자 | 2024-12-27 | 취득금액 | 69,300,000원 |
| 표준분류 | 기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 열처리장치 | 활용용도 | 시험 |
| 장비위치 |
경상북도 구미시 야은로 37 구미대학교 창의관 F3층 반도체공정실습실호
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| 장비설명 |
- 본 장비는 질소, 산소 분위기에서 온도를 1,100℃를 올려 4인치 Wafer를 열처리 하는 수평 가열 설비이다.
- 반도체 소자의 다양한 부분(게이트 산화막, 마스킹 산화막, 격리 산화막 등)을 형성하는데 사용된다 - 가열부를 지정 시간내에 요구하는 온도에 도달하고, 온도 조절이 자유롭고 열손실이 극히 적으며, 온도 편차를 최소화한 설비이다. |
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| 구성 및 기능 |
- Application : Dry oxidation, Wet oxidation, annealing
- Oxidation 공정에 의한 산화막 두께 균일도 향상을 위한 O2 & 수증기 공급 ball joint quartz reactor, 그리고 furnace 로의 내부 flow 제어를 위한 독자적인 baffle & damper 구조 - 최대 4“ Si wafer 15ea loading이 가능하고 oxidation 공정을 위해 최대 1100℃까지 온도 상승이 가능한 heater 구성 - Wet oxidation 공정 중 공급되는 D.I. water 수증기 제어를 위해 bubble 내부에 N2 gas flow 제어 및 bubble 온도 정밀 제어 모듈 구성 |
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| 사용/활용예 | |||
| 이용안내 | |||
| 유의사항 | |||
이용료안내
| 담당자에게 문의하시기 바랍니다. |
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