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정보제공 : ZEUS 장비활용종합포털(www.zeus.go.kr)
탄소소재 미세 구조분석 시스템(FE-SEM)
Microstructure analysis system for C-Composite
| GBTP No. | GBREMS-04-0003 |
|---|---|
| NFEC등록번호 | NFEC-2021-04-270017 |
| I-tube등록번호 | 2101-A-0237 |
| 보유기관 | 경북테크노파크 |
| 연락처 | 053-850-7706 |
| 대표번호 | 053-819-7072 |
장비정보
| 모델명 | JSM-7900F | 제작사 | Jeol |
|---|---|---|---|
| 취득일자 | 2021-01-11 | 취득금액 | 980,489,940원 |
| 표준분류 | 광학/전자영상장비 > 현미경 > 주사전자현미경 | 활용용도 | 시험 |
| 장비위치 |
경상북도 경산시 진량읍 신제1길 31 (신제리) (재)경북하이브리드부품연구원연구동 B1층 106호
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| 장비설명 | 탄소 소재 미세구조분석 시스템은 일반 광학현미경으로는 관찰이 어려운 탄소 소재의 기공, 함침 적정성을 관찰할 수 있는 복합소재 미세영역을 고분해, 고배율(최저 25배에서 최고 100만배까지)로 확대하여 표면, 단면 구조 및 형태를 확인 가능한 기초 분석 장비 | ||
| 구성 및 기능 |
장비의 구성(Configurations of Goods)
1. 주장비 1) FE-SEM main body 1 set 2) 5 Axis Motor Drive stage 1 set 3) Specimen Exchange Chamber 1 set 4) Personal Computer with 24inch LCD monitor 1 set 5) UPS for FE-Gun 1 set 6) In column Electron detector system with ACL 1 set 7) Super high resolution bias deceleration system 1 set 8) Auto beam alignment software 1 set 9) Retractable BSE detector 1 set 10) Color image Stage Navigation System 1 set 11) IR Chamber Camera 1 set 12) Embedded type anti-vibration isolation system 1 set 13) 5.2cm bulk holder 1 set 14) Cross section multi specimen holder 1 set 15) Operation Table 1 set 16) Energy Dispersive X-ray Spectrometer 1 set 17) Low damage Cross section system 1 set 18) Automatic magnetron sputter coater 1 set -. Target : Pt & Au 19) Automatic carbon coater system 1 set 20) Consumable parts -. Aperture 2 ea -. Vacuum Grease 1 ea -. Specimen mount, 12.5Dx5H, 3 ca -. Specimen mount, 25.4Dx5H, 3 ca -. Adhesive Tape(carbon), 20M 3 ca 2. 보조장비 1) Cooling Water Circulator for FE-SEM 1 set 2) A.V.R for FE-SEM 1 set 성능 및 규격(Performance and Specification) 1. Performance 1) Image Resolution : 0.7nm guaranteed at 15kV or less 0.8nm guaranteed at 1kV or less 1.0nm guaranteed at 0.5kV or less 2) Magnification : x25 to x1,000,000 on photo mag. or more 3) Image types : Secondary electron image Backscattered electron image SE and BSE mixed image (with filtering system) 4) Accelerating Voltage : 0.02 to 30kV or more 5) Probe current : A few pA to 400nA or more 2. Electron Optical System 1) Lens control method : New electron optical control mechanism. Synchronized system which control the electron gun and optical system. 2) Electron Gun : In lens Field Emission-Gun 3) Lens System : -. Observation mode : SEM, LDF GBSH or more -. Condenser lens (C.L) : Electromagnetic 2-stage lens -. |
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| 사용/활용예 | |||
| 이용안내 | |||
| 유의사항 | |||
이용료안내
| 담당자에게 문의하시기 바랍니다. |
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